合成氯化氫的原理是氯氣和氫氣在合成爐中混合燃燒并放熱。氯化氫氣體含水的主要原因一方面是原料氫氣和氯氣中的含水量過高，另一方面是氫氣與水使少量氯化氫以鹽酸形式進入沸騰爐，腐蝕設備，縮短設備的壽命；并使系統中的三氯氫硅水解成二氧化硅，堵塞設備和管道，影響生產。
怎樣把hcl氣體中的水去除是很多廠家和客戶關心的問題，下面相關資糧供大家借鑒。
1.原料脫水。氯堿廠出來的氯氣經過濃硫酸的干燥，可以充分地除水。所以，合成氯化氫中的水主要來自于氫氣。為了有效脫去氫氣中的水，可以根據氫氣和水的沸點不同，按照道爾分壓定律，把氫氣加壓到0.4MPa左右，再用循環水冷卻。
2.氯化氫氣體脫酸。氯化氫氣體脫酸主要采用冷卻方法，應該在保證鹽酸不結晶并且不堵塞管道的前提下，盡可能地降低冷卻溫度。出氯化氫合成爐的氯化氫氣體，不僅要用循環水冷卻、空氣冷卻，還應用溫度更低的鹽水冷卻，才能更好地脫除其中的水。另外，適當地延長氯化氫氣體在脫酸系統中的停留時間，使氯化氫氣體與冷媒更好地接觸，也可以更有效地去除其中的水。為此，可以在脫酸系統中再加入過濾面積足夠大的酸霧過濾器。
