近15年來，隨著更復(fù)雜、更密集的大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)，對高純氣體潔凈度的要求，已不亞于對純度和干燥度的要求，凡工藝氣體，無一不對其中的粒子提出限制。因此，對于高純氣體，純度、干燥度、潔凈度是三項重要的標(biāo)度。由于高純度氣體的使用地點、性質(zhì)、工況（如溫度、壓力等）都不完全一致，所以，如何確定高純氣體的“三度”（純度、干燥度、潔凈度），還沒有一個嚴格而明確的概念。    對于純度和干燥度的控制，我國CBJ73—84《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》鹽城特種氣體中指出，“高純氣體系指純度大于或等于99.9995%，含水量小于5ppm氣體。”日本把微電子生產(chǎn)中所采用的氣體，按其不同的品位，具體分為下列幾個不同的檔次：

1.超高純氣體    氣體中雜質(zhì)總含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。

2.高純氣體    氣體中雜質(zhì)總含量控制在5ppm以下，水份含量控制在3 ppm以內(nèi)。

3.潔凈氣體    氣體中雜質(zhì)總含量控制在10 ppm以下,對水份含

量未作嚴格規(guī)定。 

        上述規(guī)定，都未涉及潔凈度。我們知道集成電路的生產(chǎn)，幾乎都是在潔凈環(huán)境中進行，是防止塵埃粒子污染微電子產(chǎn)品所必需的。所以，對潔凈的生產(chǎn)環(huán)境絕不允許采用不潔凈的氣體來破壞，必須使氣體的潔凈度與潔凈環(huán)境保持一致，根據(jù)相關(guān)資料以及近些年公司相關(guān)工程的經(jīng)驗進行了一些歸納。